팹이용에 있어서 플렉서블 OLED은 급락 중이고..애플 영향...리지드OLED는 바닥을 찍었고....LG 디스플레이의 OLED TV fab은 강한 수요에 따라 OLED fab 활용에있어서 정말로 빛나는 별이다. 지난 10 개월 연속 90 % 이상의 가동률을 기록--> 캐파만 커지면....확실히 좋아질 것으로 보이는 LGD....LCD수익 감쇄를...가능하지 않을까...

최근 EUV, ALE(원자 단위 식각) 등 새로운 장비 도입이 가시화. ASML은 2018년 18대의 EUV 장비를 출하. 2019년 계획은 30대. 4Q18에 6대를 출하했고 5대를 수주. 2018년 EUV 장비는 시간 당 웨이퍼 출하량 145장 을 달성. 2019년에는 170장에 달할 전망. 로직 7nm와 5nm에 EUV 사용 이 본격화추가적으로 DRAM에도 EUV 투입이 시작. ASML은 2019년 30대의 EUV 장비 중 85%가 로직 반도체에 15%가 DRAM에 사용될 것이라고 전망. 기 존 예상보다 빠르게 DRAM에 차세대 장비 EUV가 도입될 전망. EUV에 공격적으로투자하는회사가향후기술헤게모니를잡을수있을것. 현재 삼성전자가 가장 적극적으로 EUV에 투자 중ALE도 가시화될 것. ALE은 원.......

http://www.cdxcl.org/news_details.html?id=4093무거운! 중국 최초의 G11 마스크 생산 라인 제품 성공적으로 청두 하이테크 존에 출범어제, 성도의 하이테크 구역에 위치해있다.청두 Luwei 광전 유한 회사에 ushered건설 시작 이후 중요한 순간들 :중국 최초의 G11 세대 고화질 마스크 프로젝트첫 번째 레티클 제품이 성공적으로 출시되었습니다.따라서 중국 최초의 독자적인 연구 개발 생산고정밀 G11 마스크 버전이 공식적으로 탄생했습니다!중국이 처음으로 대형 패널 용 마스크의 대량 생산 능력,초 고세포 마스크 버전의 현지화가 실현되었습니다."Chengdu Luwei의 11 세대 마스크 제품의 지표는 업계의 국제.......

http://www.thebell.co.kr/free/content/ArticleView.asp?key=201901250100049230003083&lcode=00&page=1&svccode=00"'SK하이닉스와 공동개발' 곧 실적 반영, 네덜란드 ASML과 신사업 협상"코스닥 업체 에스앤에스텍(S&S TECH)이 기업설명회(IR)를 통해 현재 삼성전자에 블랭크마스크를 독점 공급하고 있다고 강조했다. 이어 SK하이닉스와 공동개발해 온 제품 관련 실적은 올해 성과가 나타날 것이라고 밝혔다.신규사업으로 추진 중인 EUV(극자외선) 펠리클 사업 분야에선 EUV 장비를 독점 생산하는 네덜란드 반도체 장비 기업 ASML과 긴밀하게 공급 협상도 진행 중이다.1월 24일.......

에스앤에스텍이 블랭크마스크(Blank Mask) 수요 증가에 힘입어 지속적인 실적 향상을 기대하고 있다. 에스앤에스텍은 24일 서울 여의도 한국거래소에서 기관투자자와 애널리스트를 대상으로 기업설명회를 개최, 블랭크마스크 사업을 강화하겠다며 이같이 밝혔다. 회사 관계자는 "올해 삼성전자 시스템 LSI 사업 강화, SK하이닉스 2세대 10nm D램 양산계획 등 전방산업 호조와 중국의 LCD·OLED 생산라인 대폭 확장으로 포토마스크 원재료인 블랭크마스크 수요 증가가 예상된다"며 "이에 대응할 수 있는 기술력과 생산시설을 확보한 상태"라고 했다.그는 이어 "폴더블, 전장, VR 등 미래 산업 분야에서 OLED 수요 증가에.......

극자외선(EUV) 노광 장비가 올해 D램 생산 라인에도 적용된다. 1z 나노 D램 양산의 발목을 잡고 있는 멀티 패터닝 기술 대신이다. ASML은 23일(현지 시각) 올해 총 30대의 EUV 노광 장비를 출하할 계획이라고 밝혔다. 고객사는 로직(Logic) 반도체 제조사와 D램 제조사다. 피터 베닝크 ASML 최고경영자(CEO)는 "올해 출하하는 30대 중 D램 메모리 고객의 양산 라인을 위한 장비가 포함돼있다"며 "EUV 기술로 만들어진 칩들이 올해부터 본격적으로 나올 것"이라고 말했다.반도체 제조 공정에서 노광(Lithography)은 웨이퍼에 회로 패턴을 그리는 핵심 적인 단계다. 웨이퍼에 감광액(Photo Resist·PR)을 바르고 회로 패.......

“과거 문제가 됐던 극자외선(EUV) 노광장비의 출력은 양산에 적용할 정도로 개선된 상태입니다. 이제 펠리클 투명도와 포토레지스트의 민감도를 높이는 쪽으로 업계 시선이 모아지고 있습니다.”23일 오혜근 한양대학교 교수는 서울 삼성동 코엑스에서 열린 ‘세미콘코리아 2019’에서 “펠리클의 투명도를 90% 수준으로 높여야 한다”고 말했다. 펠리클은 EUV 노광 장비 안에서 마스크에 이물질이 끼는 것을 방지하는 투명막이다. EUV 빛이 마스크를 감싸고 있는 펠리클을 앞뒤로 두 번 통과하기 때문에 펠리클 투명도가 낮으면 빛 손실이 커진다. EUV 빛 손실이 크면 그만큼 웨이퍼에 도달하는 빛의 양이 줄고, 공정 생산성도 낮아질 수 밖.......

http://www.thelec.kr/news/articleView.html?idxno=650"주도적으로 활동하는 중국 파운드리 업체는 네 곳"이라고 설명했다. SMIC, HHGrace, HLMC, CSMC 등이 대표적이다. 지난해까지 SMIC와 HHGrace는 각각 월 49만장, 17만장의 생산시설을 확보했다. 2020년이면 각각 월 58만장, 19만장으로 늘어날 전망이다. 같은 해 HLMC와 CSMC는 각각 월 14만장, 12만장 생산설비를 갖춘다. 그는 "공장 가동률은 또 다른 문제지만, 상당히 작지 않은 규모"라고 강조했다.중국과 해외 주요 파운드리 기업은 12인치 웨이퍼 생산시설 확장에 초점을 맞추고 있다. 지난해 TSMC, 글로벌 파운드리, SMIC 모두 12인치 시설을 늘렸다.......